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實驗用光學鍍膜厚度檢測設備介紹

實驗用光學鍍膜厚度檢測設備介紹

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F3-CS 是測量小樣品的最佳測量系統。與測量臺集成的測量系統使其易于攜帶。

只需將樣品的測量面朝下放在載物臺上即可進行測量,大約1秒即可測量膜厚和折射率。

主要特點

  • 緊湊的尺寸

  • 輕松連接,僅 USB 連接

  • 光學常數分析(折射率/消光系數)

主要用途

光學鍍膜硬涂層、防滴膜等
平板有機膜等

產品陣容

模型F3-CS-UVF3-CSF3-CS-近紅外
測量波長范圍190 – 1100nm380 – 1050nm950 – 1700nm

膜厚測量范圍

3nm – 40μm15nm – 70μm100nm – 250μm
準確性*± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度
1納米2納米3納米

*取決于樣品和測量條件

測量示例

可以測量從半導體等精密加工產品到眼鏡和汽車零件的各種樣品的膜厚。

 

多晶硅薄膜的膜厚和折射率分析



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