射頻/直流磁控濺射設(shè)備納米PVD-S10A的基本性能優(yōu)勢

高性能射頻/直流磁控濺射設(shè)備。 雖然它很小，但它是一種滿足追求高性能的用戶的設(shè)備，不允許在薄膜質(zhì)量上妥協(xié)，例如一般金屬薄膜，絕緣體和化合物。 它還支持多達(dá) 3 源陰極、多層連續(xù)薄膜和同步沉積（*僅限射頻和直流組合）的應(yīng)用。 選項包括加熱器、旋轉(zhuǎn)和提升、磁性材料的陰極以及帶電容壓力計的高精度壓力控制。

高精度Φ2英寸磁控管陰極（最多3個源）

• 直流、射頻、脈沖直流

• 易于更換目標(biāo)

• 傾斜角度

多達(dá) 3 種工藝氣體系統(tǒng)：還兼容反應(yīng)飛濺

• 通過 7“ 觸摸屏集中管理壓力和流量設(shè)置

• 標(biāo)準(zhǔn) Ar 1 系統(tǒng)，可擴(kuò)展至 N2 和 O2

• 精密過程壓力控制選項

控制軟件“智能"

• 直觀的操作

• 通過 7 英寸觸摸屏集中管理所有設(shè)置

• USB 到 Windows PC、CSV 和日志數(shù)據(jù)輸出

• 多達(dá) 1000 層、1000 個進(jìn)程、50 個配方創(chuàng)建注冊