超純水精制裝置用溶解臭氧臭氧濃度計(jì)

超純水精制裝置用溶解臭氧臭氧濃度計(jì)

• 晶圓濕法清洗（O?-DIW）
• 光阻剝離、Cu 配線蝕刻
• 超純水系統(tǒng)臭氧濃度閉環(huán)控制
• 晶圓濕法清洗（O?-DIW）
• 光阻剝離、Cu 配線蝕刻
• 超純水系統(tǒng)臭氧濃度閉環(huán)控制

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• 晶圓濕法清洗（O?-DIW）
• 光阻剝離、Cu 配線蝕刻
• 超純水系統(tǒng)臭氧濃度閉環(huán)控制

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• 晶圓濕法清洗（O?-DIW）
• 光阻剝離、Cu 配線蝕刻
• 超純水系統(tǒng)臭氧濃度閉環(huán)控制

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原理：深紫外 LED 254 nm 吸收法（雙光束，參比補(bǔ)償）范圍：0 – 2,000 ppb（µg/L）溶解臭氧分辨率：0.1 ppb精度：±0.5 ppb 或 ±1 % RD 取大者檢出限：0.3 ppb（3σ，60 s）響應(yīng)時(shí)間：T90 ≤ 10 s（0.2 L min?1 時(shí)）溫度補(bǔ)償：0 – 60 ℃ 自動(dòng)（內(nèi)置 PT1000）壓力補(bǔ)償：0 – 0.5 MPa 自動(dòng)（內(nèi)置絕壓傳感器）接液與安裝接液材質(zhì)：PFA + 高純石英（TOC < 1 ppb 級(jí)）流路：超小型石英池 40 µL，死體積 < 0.1 mL接口：1/4″ PFA 快擰（IN/OUT 同徑）采樣流量：0.1 – 0.5 L min?1（推薦 0.2 L min?1）防護(hù)：IP65，耐 18 MΩ 超純水靜電沖擊輸出與通信模擬：隔離 4–20 mA（負(fù)載 ≤ 500 Ω，線性/對(duì)數(shù)可選）數(shù)字：RS-485 Modbus RTU， baud 9.6 k–115.2 k報(bào)警：High / High-High / LOW 繼電器 1 A×3數(shù)據(jù)記錄：內(nèi)置 32 GB SD 卡，CSV 連續(xù) 1 s，約 10 年校準(zhǔn)記錄：自動(dòng)時(shí)間戳，可導(dǎo)出 PDF（符合 GMP）自動(dòng)校零（無(wú)需標(biāo)準(zhǔn)液）內(nèi)置 Pt-MnO? 臭氧分解催化劑，60 s 生成零水零點(diǎn)漂移 < 0.2 ppb / 月跨度可用 100 ppb 標(biāo)準(zhǔn)溶解臭氧（可選配件）1 點(diǎn)修正典型工藝點(diǎn)UPW 臭氧注入后：設(shè)定 80 ppb，PID 控制臭氧發(fā)生器DIW 加熱回收段：監(jiān)測(cè)殘留 < 5 ppb，防止 Cu 氧化精混床出口：確認(rèn)臭氧已分解至 < 0.5 ppb，保護(hù)離子交換樹脂系統(tǒng)聯(lián)鎖示例O? 發(fā)生器 → Model-1700（4–20 mA）→ PLC PID →  injector 閥同時(shí) SD 卡記錄用于批次追溯（Lot ID 自動(dòng)寫入）外形與電源尺寸：160 W × 140 H × 80 D mm，1.1 kg電源：DC 24 V ±10 %，5 W安裝：DIN 導(dǎo)軌或面板開孔 152×76 mm選配全 PTFE 氣路（用于 O? 氣體側(cè)，同一型號(hào)）19 吋機(jī)架安裝套件防爆型 Ex d IIC T4（Zone 1）遠(yuǎn)程零/標(biāo)電磁閥箱（自動(dòng) 3 點(diǎn)校準(zhǔn)）價(jià)格 & 交期（2025-Q3）Model-1700 標(biāo)準(zhǔn)型：JPY 1,280,000（≈ 6.0 萬(wàn) RMB）100 ppb 標(biāo)準(zhǔn)溶解臭氧膠囊 10 只：JPY 25,000現(xiàn)貨 1-2 周；Ex d 防爆 4 周一句話總結(jié)Dylec Model-1700 = UV-LED 雙光束，0.1 ppb 分辨率、T90 10 s，40 µL 石英池，PFA+石英接液，60 s 零水自校，4–20 mA/RS-485／32 GB 記錄，是 UPW 回路「ppt 級(jí)」溶解臭氧在線監(jiān)測(cè)與 PID 反饋控制的超純水專用臭氧濃度計(jì)。