桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置
產(chǎn)品名稱(chēng): 桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置
產(chǎn)品型號(hào): FU-100
產(chǎn)品特點(diǎn): 桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體(F?、HF、SF?、NF? 等)濃度測(cè)量裝置,采用真空紫外光離子化(VUV-PID)+ 窄帶濾光片輪技術(shù),可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分,廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦
桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置 的詳細(xì)介紹
桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置
桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置
日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體(F?、HF、SF?、NF? 等)濃度測(cè)量裝置,采用真空紫外光離子化(VUV-PID)+ 窄帶濾光片輪技術(shù),可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分,廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對(duì)氟污染極度敏感的產(chǎn)線(xiàn)。
? 核心賣(mài)點(diǎn)
VUV-窄帶輪:10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪,F?/HF/NF?/SF? 單一選測(cè),無(wú)耗材、無(wú)化學(xué)池
ppb 級(jí)下限:0 – 500 ppb F? 檔,檢出限 1 ppb,線(xiàn)性 R2 > 0.999
潔凈對(duì)應(yīng):全 316L EP + 金屬墊片,Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm),無(wú)死體積 < 0.1 mL
高速響應(yīng):T90 ≤ 5 s(1 L/min),可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
雙量程自動(dòng)切換:0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔,自動(dòng)跳檔
無(wú)零點(diǎn)漂移:雙光束 VUV + 參考池,24 h 零點(diǎn)漂移 < ±1 ppb
數(shù)據(jù)完整:32 GB 內(nèi)置 + OPC-UA / Modbus TCP,5 年連續(xù)存
日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體(F?、HF、SF?、NF? 等)濃度測(cè)量裝置,采用真空紫外光離子化(VUV-PID)+ 窄帶濾光片輪技術(shù),可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分,廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對(duì)氟污染極度敏感的產(chǎn)線(xiàn)。
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VUV-窄帶輪:10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪,F?/HF/NF?/SF? 單一選測(cè),無(wú)耗材、無(wú)化學(xué)池
ppb 級(jí)下限:0 – 500 ppb F? 檔,檢出限 1 ppb,線(xiàn)性 R2 > 0.999
潔凈對(duì)應(yīng):全 316L EP + 金屬墊片,Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm),無(wú)死體積 < 0.1 mL
高速響應(yīng):T90 ≤ 5 s(1 L/min),可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
雙量程自動(dòng)切換:0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔,自動(dòng)跳檔
無(wú)零點(diǎn)漂移:雙光束 VUV + 參考池,24 h 零點(diǎn)漂移 < ±1 ppb
數(shù)據(jù)完整:32 GB 內(nèi)置 + OPC-UA / Modbus TCP,5 年連續(xù)存
日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體(F?、HF、SF?、NF? 等)濃度測(cè)量裝置,采用真空紫外光離子化(VUV-PID)+ 窄帶濾光片輪技術(shù),可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分,廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對(duì)氟污染極度敏感的產(chǎn)線(xiàn)。
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VUV-窄帶輪:10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪,F?/HF/NF?/SF? 單一選測(cè),無(wú)耗材、無(wú)化學(xué)池
ppb 級(jí)下限:0 – 500 ppb F? 檔,檢出限 1 ppb,線(xiàn)性 R2 > 0.999
潔凈對(duì)應(yīng):全 316L EP + 金屬墊片,Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm),無(wú)死體積 < 0.1 mL
高速響應(yīng):T90 ≤ 5 s(1 L/min),可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
雙量程自動(dòng)切換:0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔,自動(dòng)跳檔
無(wú)零點(diǎn)漂移:雙光束 VUV + 參考池,24 h 零點(diǎn)漂移 < ±1 ppb
數(shù)據(jù)完整:32 GB 內(nèi)置 + OPC-UA / Modbus TCP,5 年連續(xù)存